Abstract

【課題】投影システムの素子間の機械的絶縁を改良する。 【解決手段】投影システムの第1の素子と投影システムの第2の素子の間の振動伝搬の範囲を低減する手段を備えるリソグラフィ装置、及びデバイス製造方法が開示される。開示される方法は、振動絶縁システムの一部として直列の複数の弾性部材と、第1及び第2の投影システムフレームを別個に支持する複数の絶縁フレームと、第1及び第2の投影システムフレームと(1つ又は複数の)絶縁フレームの間の相互作用のために修正された連結位置とを使用することを含む。 【選択図】図2
PROBLEM TO BE SOLVED: To improve mechanical insulation between elements of a projection system.SOLUTION: A lithographic apparatus having means for reducing the extent to which vibrations propagate between a first element of a projection system and a second element of the projection system, and a device manufacturing method are disclosed. The method includes the use of a plurality of elastic members in series as a part of a vibration insulation system, a plurality of insulation frames for separately supporting first and second projection system frames, and corrected connection positions for the interaction between the first and second projection system frames and the insulation frame(s).

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Patent Citations (3)

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